2.2.2 国内集成电路生产线发展情况

20世纪60年代中期，我国许多工厂利用国产设备建立了一批半导体生产线，产品多数以晶体管为主。各省市所建厂中比较有名的有上海元件五厂、上海无线电七厂、上海无线电十四厂、上海无线电十九厂、苏州半导体厂、常州半导体厂，北京市半导体器件二厂、三厂、五厂、六厂，天津半导体一厂和航天部西安691厂等。

1968年，上海无线电十四厂在国内首次研制成功PMOS集成电路。

20世纪70年代初，永川半导体研究所、上海无线电十四厂和北京878厂相继研制成功NMOS集成电路，之后又研制成功CMOS集成电路，拉开了我国发展MOS集成电路的序幕。

1983年，江苏无锡的江南无线电器材厂从日本东芝公司全面引进的全新完整的3in工艺设备集成电路生产线建成投产，主要生产彩色和黑白电视机所用的集成电路产品。

1988年，在上海无线电十四厂的基础上成立的上海贝岭微电子制造有限公司建成一条全新的4in集成电路生产线。

1988年，在上海元件五厂、七厂和十九厂联合技术引进项目的基础上，组建上海飞利浦半导体公司，建成一条全新的5in集成电路生产线。

1990年，中国华晶电子集团公司承担国家“908”工程，建成一条150mm集成电路生产线。

1991年，首钢NEC电子有限公司建成一条150mm集成电路生产线。

1999年，上海华虹NEC电子有限公司承担国家“909”工程项目，建成一条自动化程度非常高的200mm超大规模集成电路生产线，采用0.35μm工艺量产制造64Mbit同步动态存储器（SDRAM）。

2001年，中芯国际集成电路制造有限公司的首条200mm集成电路生产线在上海建成投产，制造当时国内最先进的0.25μm以下逻辑集成电路芯片产品，同时还为客户提供掩模版制造服务。2002年，量产0.18μm逻辑集成电路芯片产品，将中国集成电路的水平提升了五个技术代。目前中芯国际集成电路制造有限公司仍然是世界先进的集成电路芯片代工企业之一。

2004年，台积电（上海）有限公司和上海先进半导体制造有限公司相继开工建设。

2005年4月，中芯国际集成电路制造有限公司在北京建成我国第一条300mm集成电路生产线。

2006年10月，无锡海力士半导体公司建成一条30mm集成电路生产线，生产存储器产品。

2007年12月，中芯国际集成电路制造有限公司（上海）300mm集成电路生产线正式运营，次年量产。

2008年9月，武汉新芯集成电路制造有限公司建设成功一条300mm集成电路生产线，主要提供闪存及CMOS图像传感器产品代工服务。

2010年，上海华力微电子有限公司正式成立，承担“909”工程升级改造主体项目，建设了一条300mm的90nm/65nm/45nm工艺集成电路生产线。